輻射固化技術基礎化學

輻射固化的基本化學反應是由UV或EB輻射（主要使用UVUV輻射）引起的不飽和化合物聚合。UV和EB兩種固化方法之間的差異在于能量和生成的差異自由基不同的來源。 就固化系統而言，UV固化系統必須包含光引發劑，而EB固化體系不包含光引發劑。 此外，它們的其余部分由低聚物組成，即活性稀釋劑，阻聚劑，輔助劑。該試劑由四個部分組成。 低聚物是在末端具有不飽和基團的大分子化學物質，其決定了固化膜的基本性能。 目前，常用的低聚物是雙酚A環氧丙烯酸酯，聚酯丙烯酸酯，聚醚丙烯酸酯，聚氨酯丙烯酸酯和不飽和聚酯八種化合物。

活性稀釋劑是末端帶有不飽和基團的單體化合物，分為兩種類型:單官能和多功能，例如三甲基丙烷三丙烯酸酯，四甘醇二丙烯酸酯，乙烯基吡啶，苯乙烯和其他十種 化合物。 常用的光敏劑是自由基型光引發劑，在UV照射后變成激發態，引起分裂而產生自由基，或者由三級胺的組合使用或碳氫化合物并存提取出氫而產生自由基，常用光敏劑有安息香雙甲醚，二甲苯等九種化合物。

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